調(diào)節(jié)裝置及使用其的帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)專利登記公告

專利名稱：調(diào)節(jié)裝置及使用其的帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)

摘要：本發(fā)明涉及一種帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)，用來使用多個(gè)帶電粒子射束將圖案?jìng)魉偷侥繕?biāo)表面上。該系統(tǒng)包括波束產(chǎn)生器（3）、射束阻斷器陣列（9）、屏蔽結(jié)構(gòu)（111）與投射系統(tǒng)。波束產(chǎn)生器布置成產(chǎn)生多個(gè)帶電粒子射束。射束阻斷器陣列被布置成根據(jù)圖案來圖案化多個(gè)射束。射束阻斷器陣列包含多個(gè)調(diào)節(jié)器（101）和多個(gè)光敏元件（107），光敏元件被布置成接收?qǐng)D案數(shù)據(jù)承載光束并將光束轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。光敏元件被電連接到一個(gè)或更多個(gè)調(diào)節(jié)器，以提供所接收的圖案數(shù)據(jù)。屏蔽結(jié)構(gòu)（111）由導(dǎo)電材料制成，為調(diào)節(jié)器基本上屏蔽掉在光敏元件附近產(chǎn)生的

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080059452.7

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：邁普爾平版印刷IP有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：M.J-J.維蘭德;R.賈格爾;A.H.V.范維恩;S.W.H.K.斯蒂恩布林克

主權(quán)項(xiàng)：一種使用多個(gè)帶電粒子射束將圖案?jìng)魉偷侥繕?biāo)表面上的帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包含：?波束產(chǎn)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)帶電粒子射束；?射束阻斷器陣列，用于根據(jù)圖案來圖案化所述多個(gè)射束；其中所述射束阻斷器陣列包含多個(gè)調(diào)節(jié)器和多個(gè)光敏元件，所述光敏元件被布置成接收?qǐng)D案數(shù)據(jù)承載光束并將所述光束轉(zhuǎn)換成電信號(hào)，所述光敏元件被電連接到一個(gè)或更多個(gè)調(diào)節(jié)器，用于向所述一個(gè)或更多個(gè)調(diào)節(jié)器提供所接收的圖案數(shù)據(jù)；?導(dǎo)電材料的屏蔽結(jié)構(gòu)，用于基本上屏蔽在所述光敏元件附近產(chǎn)生的電場(chǎng)，與所述調(diào)節(jié)器隔開，其中所述屏蔽結(jié)構(gòu)被布置成被設(shè)定在預(yù)定電

專利地區(qū)：荷蘭