高壓屏蔽裝置專利登記公告

專利名稱：高壓屏蔽裝置

摘要：本發(fā)明涉及一種高壓屏蔽裝置，該裝置包括：第一金屬部件和鄰近于所述第一金屬部件定位的第二金屬部件。包括在所述裝置中的所述第二金屬部件的被設(shè)定在比第一金屬部件的電位低的電位上。所述第二金屬部件包括一個或多個邊緣以及一個絕緣體。該第二金屬部件至少部分地被面對著第一金屬部件的該絕緣體封裝。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080055147.0

專利申請（專利權(quán)）人：邁普爾平版印刷IP有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計）人：J·J·科寧;S·W·H·K·施藤布里克;N·H·R·巴斯;B·席佩爾

主權(quán)項：一種用于在帶電粒子系統(tǒng)中使用的高壓屏蔽裝置，包括：第一金屬部件，包括在所述裝置中以被設(shè)定為第一電位；實質(zhì)上薄的第二金屬部件，例如涂層；所述第二金屬部件被包括在所述裝置中以被設(shè)定在第二電位上，導(dǎo)致了關(guān)于第一金屬部件相對帶負電；所述第二金屬部件被定位在距所述第一金屬部件一定距離處；所述第一和第二金屬部件之間的所述距離限定了其中存在電場的放電區(qū)域；所述第二金屬部件包括一個或多個邊緣部件；以及所述裝置進一步包括絕緣體，其特征在于：面對放電區(qū)域的所述一個或多個邊緣部件被該絕緣體至少部分地封裝，并且該第二金屬部件被包

專利地區(qū)：荷蘭