具有調(diào)節(jié)裝置的帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)專利登記公告

專利名稱：具有調(diào)節(jié)裝置的帶電粒子多射束光刻系統(tǒng)

摘要：一種用于將圖案?jìng)魉偷侥繕?biāo)表面上的帶電粒子光刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括：用于生成多個(gè)帶電粒子射束的波束產(chǎn)生器（3）、定義柱體的多個(gè)射束、具有用于阻擋射束到達(dá)目標(biāo)表面的表面和在表面中的用于允許射束到達(dá)目標(biāo)表面的孔隙陣列的波束停止陣列（10），以及，用于調(diào)節(jié)射束，以通過(guò)使射束偏轉(zhuǎn)或不偏轉(zhuǎn)使得射束被或不被波束停止陣列阻擋，來(lái)阻止一個(gè)或更多射束到達(dá)目標(biāo)表面或允許一個(gè)或更多射束到達(dá)目標(biāo)表面的調(diào)節(jié)裝置（9）。調(diào)節(jié)裝置包括：布置成陣列的用于讓射束通過(guò)調(diào)節(jié)裝置的多個(gè)孔隙、布置成陣列的多個(gè)調(diào)節(jié)器（30），每個(gè)調(diào)節(jié)器配備有在孔隙的相對(duì)

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080059454.6

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：邁普爾平版印刷IP有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：M.J-J.維蘭德;R.賈格爾;A.H.V.范維恩;S.W.H.K.斯蒂恩布林克

主權(quán)項(xiàng)：一種用于將圖案?jìng)魉偷侥繕?biāo)表面上的帶電粒子光刻系統(tǒng)，包括：用于生成多個(gè)帶電粒子射束的波束產(chǎn)生器，所述多個(gè)射束定義柱體；波束停止陣列，具有用于阻擋射束到達(dá)所述目標(biāo)表面的表面，以及在所述表面中用于允許所述射束到達(dá)所述目標(biāo)表面的孔隙陣列；以及調(diào)節(jié)裝置，用于調(diào)節(jié)所述射束，通過(guò)使所述射束偏轉(zhuǎn)或不偏轉(zhuǎn)，使得所述射束被或不被所述波束停止陣列阻擋，以阻止所述射束中的一個(gè)或多個(gè)到達(dá)所述目標(biāo)表面，或者允許所述射束中的一個(gè)或多個(gè)到達(dá)所述目標(biāo)表面，所述調(diào)節(jié)裝置包括：被布置成陣列的多個(gè)孔隙，用于讓所述射束通過(guò)所述調(diào)節(jié)裝置；被布置成陣

專利地區(qū)：荷蘭