電解質(zhì)溶液和電拋光方法專利登記公告

專利名稱：電解質(zhì)溶液和電拋光方法

摘要：水性電解質(zhì)溶液，包括：濃度范圍為約1.6g/L至約982g/L的檸檬酸和有效濃度的氟化氫銨(ABF)；以及基本是沒有強酸。微拋光非鐵金屬加工件的表面的方法包括將表面暴露于水性電解質(zhì)溶液的槽，所述水性電解質(zhì)溶液包括濃度范圍為約1.6g/L至約780g/L的檸檬酸、和濃度范圍為約2g/L至約120g/L的氟化氫銨以及具有不大于約3.35g/L的強酸；控制槽的溫度在該溶液的凝固點和沸點之間；將加工件連接至DC電源供應的陽極和在槽中浸漬DC電源供應的陰極；和施加電流穿過槽。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080059249.X

專利申請（專利權）人：梅特康有限責任公司

專利發(fā)明（設計）人：J·L·克拉斯坎;T·J·克里斯坦森

主權項：水性電解質(zhì)溶液，包括：濃度范圍為約1.6g/L至約982g/L的檸檬酸；和有效濃度的氟化氫銨(ABF)；以及基本是沒有強酸。

專利地區(qū)：美國