用于為制造微結(jié)構(gòu)的激光設(shè)備制造掩膜的方法和裝置專利登記公告

專利名稱：用于為制造微結(jié)構(gòu)的激光設(shè)備制造掩膜的方法和裝置

摘要：在根據(jù)掩膜投影技術(shù)用于在固體表面上產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)的激光設(shè)備的掩膜和/或光闌的方法中，散射激光射線的預(yù)定的不透明表面部分通過(guò)借助飛秒、皮秒或氟石激光射束而粗糙化并修改掩膜和/或光闌基板而在其中產(chǎn)生。這種掩膜和光闌具有明顯提高的壽命和精確度，并且可以例如用于產(chǎn)生閃耀光柵，該閃耀光柵布置在固體表面上的衍射光柵陣列中，用于產(chǎn)生高光輝的光譜顏色和混合色。

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080057395.9

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：伯格利-格拉維瑞斯股份有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：C·伯格利;S·威斯曼特爾;G·雷瑟;A·恩格爾;R·伯特徹;W·斯蒂芬

主權(quán)項(xiàng)：一種用于產(chǎn)生掩膜和/或光闌的方法，所述掩膜和/或光闌用于在固體表面上產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)的激光設(shè)備，其中對(duì)激光射線不透明的所述掩膜和/或光闌的區(qū)域散射入射激光射線，其特征在于散射所述激光射線的區(qū)域通過(guò)以飛秒、皮秒或氟石激光射束的照射而被粗糙化和修改。

專利地區(qū)：瑞士