等離子體處理裝置和等離子體處理方法專利登記公告

專利名稱：等離子體處理裝置和等離子體處理方法

摘要：本發(fā)明涉及一種感應(yīng)結(jié)合型等離子體處理裝置，能夠?qū)υ诟袘?yīng)結(jié)合型等離子體處理中在腔室內(nèi)生成的環(huán)形等離子體內(nèi)的等離子體密度分布乃至基板上的等離子體密度分布進(jìn)行多樣化精細(xì)地控制。在該感應(yīng)結(jié)合型等離子體處理裝置中，設(shè)置于電介質(zhì)窗(52)上的RF天線(54)在徑向上被分割成內(nèi)側(cè)線圈(58)、中間線圈(60)和外側(cè)線圈(62)。從高頻電源(72)通過RF供電線(68)、RF天線(54)和接地線(70)繞回到接地電位部件的情況下，更確切地從第一節(jié)點(NA)到第二節(jié)點(NB)使各線圈的高頻分支傳送路旋繞的情況下，使內(nèi)側(cè)線圈

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201210118787.2

專利申請（專利權(quán)）人：東京毅力科創(chuàng)株式會社

專利發(fā)明（設(shè)計）人：山澤陽平

主權(quán)項：一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括：具有電介質(zhì)窗的處理容器；在所述處理容器內(nèi)保持被處理基板的基板保持部；處理氣體供給部，其向所述處理容器內(nèi)供給期望的處理氣體，以用于對所述基板實施期望的等離子體處理；設(shè)置在所述電介質(zhì)窗外的RF天線，其用于在所述處理容器內(nèi)，通過感應(yīng)結(jié)合生成處理氣體的等離子體；和高頻供電部，其向所述RF天線供給適合于所述處理氣體的高頻放電的頻率的高頻電力，所述RF天線具有：分別在徑向隔開間隔相對地配置在內(nèi)側(cè)和外側(cè)，并在設(shè)置于所述高頻供電部的高頻傳送路徑上的第一節(jié)點和第二節(jié)點之間并聯(lián)電連接的

專利地區(qū)：日本