一種超材料電磁透鏡天線專利登記公告
專利名稱：一種超材料電磁透鏡天線
摘要：本發(fā)明公開了一種超材料電磁透鏡天線，包括饋源以及超材料，所述饋源與所述超材料相對設(shè)置，所述超材料存在一區(qū)段，所述區(qū)段的中部各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ之乘積為最高值，其它各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ乘積值從小到大呈漸變趨勢，且，其所述漸變趨勢向所述最高值所在的單元趨近。本發(fā)明的超材料電磁透鏡天線體積小、簡單、易于實(shí)現(xiàn)、成本低。
專利類型：發(fā)明專利
專利號：CN201110061811.9
專利申請（專利權(quán)）人：深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創(chuàng)新技術(shù)有限公司
專利發(fā)明（設(shè)計）人：劉若鵬;石小紅;徐冠雄;張洋洋
主權(quán)項：一種超材料電磁透鏡天線，其特征在于，包括饋源以及超材料，所述饋源與所述超材料相對設(shè)置，所述超材料存在一區(qū)段，所述區(qū)段的中部各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ之乘積為最高值，其它各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ乘積值從小到大呈漸變趨勢，且，其所述漸變趨勢向所述最高值所在的單元趨近。
專利地區(qū)：廣東
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