曝光裝置、液晶顯示裝置及其制造方法專利登記公告

專利名稱：曝光裝置、液晶顯示裝置及其制造方法

摘要：本發(fā)明提供一種在掃描曝光時(shí)即使掃描暫時(shí)停止也能夠抑制在接續(xù)部視認(rèn)出顯示不均的曝光裝置、液晶顯示裝置及其制造方法，本發(fā)明是用于對(duì)設(shè)置于基板上的光取向膜進(jìn)行曝光的曝光裝置，曝光裝置包括光源和光掩模，且一邊對(duì)光源和基板中的至少一個(gè)進(jìn)行掃描，一邊隔著光掩模對(duì)光取向膜進(jìn)行曝光，當(dāng)將對(duì)光源和基板中的至少一個(gè)進(jìn)行掃描的方向設(shè)為掃描方向，將與掃描方向垂直的方向設(shè)為垂直方向時(shí)，光掩模具有：第一區(qū)域；和沿垂直方向與第一區(qū)域相鄰的第二區(qū)域，第一區(qū)域在第一遮光部?jī)?nèi)具有多個(gè)第一透光部，多個(gè)第一透光部沿垂直方向排列，第二區(qū)域在第二遮

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080059879.7

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：夏普株式會(huì)社

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：井上威一郎;宮地弘一

主權(quán)項(xiàng)：一種曝光裝置，其特征在于：其是用于對(duì)設(shè)置于基板上的光取向膜進(jìn)行曝光的曝光裝置，所述曝光裝置包括光源和光掩模，且一邊對(duì)所述光源和所述基板中的至少一個(gè)進(jìn)行掃描，一邊隔著所述光掩模對(duì)所述光取向膜進(jìn)行曝光，當(dāng)將對(duì)所述光源和所述基板中的至少一個(gè)進(jìn)行掃描的方向設(shè)為掃描方向，將與所述掃描方向垂直的方向設(shè)為垂直方向時(shí)，所述光掩模具有：第一區(qū)域；和沿垂直方向與所述第一區(qū)域相鄰的第二區(qū)域，所述第一區(qū)域在第一遮光部?jī)?nèi)具有多個(gè)第一透光部，所述多個(gè)第一透光部沿垂直方向排列，所述第二區(qū)域在第二遮光部?jī)?nèi)具有多個(gè)第二透光部，所述多個(gè)第二

專利地區(qū)：日本