釕絡合物混合物、其制造方法、成膜用組合物、含釕膜及其制造方法專利登記公告

專利名稱：釕絡合物混合物、其制造方法、成膜用組合物、含釕膜及其制造方法

摘要：為了利用CVD法形成優(yōu)質(zhì)的釕薄膜，需要在低溫下形成薄膜，因此期望提供一種相對于熱具有高反應性的釕化合物。為此，本發(fā)明涉及使用下述釕絡合物混合物作為原料、利用CVD法等制造含釕膜的方法等，所述釕絡合物混合物含有：(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基環(huán)戊二烯基)合釕和相對于(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基環(huán)戊二烯基)合釕為0.1~100重量%的雙(2,4-二甲基戊二烯基)合釕。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080059677.2

專利申請（專利權）人：東曹株式會社

專利發(fā)明（設計）人：摩庭篤;大島憲昭;河野和久;古川泰志;千葉洋一;山本俊樹

主權項：一種釕絡合物混合物，其含有：(2,4?二甲基戊二烯基)(乙基環(huán)戊二烯基)合釕、及相對于(2,4?二甲基戊二烯基)(乙基環(huán)戊二烯基)合釕為0.1~100重量%的雙(2,4?二甲基戊二烯基)合釕。

專利地區(qū)：日本