成膜裝置以及成膜方法專利登記公告

專利名稱：成膜裝置以及成膜方法

摘要：提供一種能夠與基板的大型化相對應(yīng)，并且生產(chǎn)節(jié)拍短、低成本的成膜裝置以及成膜方法。將放置基板（11）的基板保持框（12）運(yùn)入真空排氣后的真空槽（41）內(nèi)，使基板保持框（12）上的基板（11）在與配置在基板運(yùn)送路徑和蒸鍍源（42）的排放口（42c）之間的掩模保持框（43）上的掩模（15）相面對的位置靜止，使基板保持框（12）離開運(yùn)送機(jī)構(gòu)（51）的運(yùn)送部件，使基板（11）的背面靜電吸附在基板吸附板（81b）表面上而保持。接著，使掩模（15）相對于基板（11）對位，在使基板（11）與掩模（15）均相對于真空槽（4

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080059579.9

專利申請（專利權(quán)）人：株式會社愛發(fā)科

專利發(fā)明（設(shè)計）人：深尾萬里;菊地博

主權(quán)項(xiàng)：?一種成膜裝置，具有：成膜室，放置基板的基板保持框，能夠從朝向上述基板方向的排放口向上述成膜室內(nèi)排放成膜材料的蒸氣的蒸鍍源，以及使上述基板保持框沿著上述成膜室內(nèi)通過與上述排放口對向的位置的基板運(yùn)送路徑移動的移動機(jī)構(gòu)，通過上述蒸氣在上述基板表面上進(jìn)行成膜，其特征在于，還具有：配置在上述基板運(yùn)送路徑與上述排放口之間、放置具有多個貫通孔的掩模的掩模保持框，和使上述掩模保持框上的上述掩模相對于與上述掩模相面對的上述基板對位的對位裝置，將放置上述基板的上述基板保持框運(yùn)入上述成膜室內(nèi)，并使其在與上述掩模保持框上的上述

專利地區(qū)：日本