低能耗內(nèi)熱硅還原真空煉鎂爐專利登記公告
專利名稱：低能耗內(nèi)熱硅還原真空煉鎂爐
摘要： 本實(shí)用新型是一種低能耗內(nèi)熱硅還原真空煉鎂爐，其根據(jù)爐子溫度場(chǎng)的分布，合理選擇材料和結(jié)構(gòu)方式，不需使用貴重的高鎳鉻合金罐及其它貴重的稀缺材料，使熱能損失最低、能耗、材料消耗費(fèi)用大幅度降低，能耗和設(shè)備耗損僅為外熱法的五分之一，回收率卻得到大大提高，且對(duì)環(huán)境無污染。本實(shí)用新型采用雙爐殼結(jié)構(gòu)，內(nèi)爐殼內(nèi)壁附有復(fù)合保溫層，多孔導(dǎo)熱層與其構(gòu)成多層同心結(jié)構(gòu)，且裝有能在工作過程中調(diào)整爐子功率性能的發(fā)熱爐芯。
專利類型：實(shí)用新型專利
專利號(hào)：CN89219958.X
專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：包頭鋼鐵稀土公司冶金研究所
專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：鄭遠(yuǎn)厚
主權(quán)項(xiàng)： 一種低能耗內(nèi)熱硅還原真空煉鎂爐是由爐殼、發(fā)熱爐心、結(jié)晶器、隔熱屏、反應(yīng)料、真空機(jī)組等組成，其特征在于爐殼由外爐殼（１）和內(nèi)爐殼（２）構(gòu)成雙爐殼結(jié)構(gòu)，內(nèi)爐殼（２）內(nèi)壁附有復(fù)合保溫層（３）、（４），在以發(fā)熱爐心（９）為中心，罩有導(dǎo)熱層（６），與內(nèi)外爐殼等構(gòu)成多層同心結(jié)構(gòu)。
專利地區(qū)：內(nèi)蒙古
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