銅酞菁芐砜基化合物及其衍生物專利登記公告
專利名稱：銅酞菁芐砜基化合物及其衍生物
摘要：本發(fā)明涉及一類銅酞菁芐砜基化合物及其衍生物，并進一步提供含有該類化合物的噴墨墨水組合物。該銅酞菁芐砜基化合物具有下述通式（I），取代基團W1、W2、W3、W4分別獨立地位于銅酞菁的β位，且至少一個為W5所示基團，其它取代基可獨立地選自SO2(CH2)mSO2X；所述取代基中，X獨立地選自NR1(CH2)wOH、N((CH2)wOH)2、NR1(CH2)wSO3M、NR1(CH2)wCO2M或OM，n為0-2的整數(shù)，m、w獨立地為2-6的整數(shù)；并且，R1為H、CH3或CH2CH3；M獨立的為H、Li、Na、
專利類型：發(fā)明專利
專利號：CN201280000280.5
專利申請（專利權(quán)）人：大連理工大學(xué);珠海納思達企業(yè)管理有限公司
專利發(fā)明（設(shè)計）人：彭孝軍;戴正亮;秦學(xué)孔;樊江莉;王風(fēng);李少磊
主權(quán)項：具有下述通式（I）所示的銅酞菁芐砜基化合物：在通式（I）中，取代基團W1、W2、W3、W4分別獨立的位于銅酞菁的β位，且至少一個為W5所示基團，其它取代基可獨立地選自SO2(CH2)mSO2X；所述取代基SO2(CH2)mSO2X和W5中，X獨立地選自NR1(CH2)wOH、N((CH2)wOH)2、NR1(CH2)wSO3M、NR1(CH2)wCO2M或OM，n為0?2的整數(shù)，m、w獨立地為2?6的整數(shù)；并且，R1為H、CH3或CH2CH3；M獨立地選自H、Li、Na、K、N+R2R3R4R5，其中的R
專利地區(qū)：遼寧
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