涂布裝置和涂布方法專利登記公告

專利名稱：涂布裝置和涂布方法

摘要：本發(fā)明提供一種涂布裝置和涂布方法，雖然在通過光學(xué)涂布機(jī)進(jìn)行涂布之前用多個(gè)清掃部件擦拭排出口對于獲得穩(wěn)定的涂布膜來說是有效的方法，但每次更換噴嘴時(shí)更換清掃部件并使它與各排出口吻合，這要花費(fèi)時(shí)間，本發(fā)明的涂布裝置包括：清掃單元，通過被支撐部件支撐的清掃部件進(jìn)行清掃；θ平臺，在所述擦拭方向上能夠放置多個(gè)所述清掃單元，并具有垂直于其上面的旋轉(zhuǎn)軸；擦拭單元，包括支撐所述θ平臺的臺座；在所述清掃單元的所述支撐部件和所述θ平臺上形成有用于夾持高度調(diào)節(jié)部件的高度調(diào)節(jié)面。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201210046849.3

專利申請（專利權(quán)）人：東麗工程株式會社

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：西元美紀(jì);伊藤禎彥;內(nèi)山悟

主權(quán)項(xiàng)：一種涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置包括：涂布液供給裝置，用于供給涂布液；涂布器，具有與所述涂布液供給裝置連通而排出所述涂布液用狹縫狀的排出口；移動(dòng)裝置，用于使所述涂布器和被涂布部件相對移動(dòng)；清掃裝置，向沿著所述排出口的狹縫方向的擦拭方向移動(dòng)，并在所述涂布器的排出口周邊部上一邊滑動(dòng)一邊去除附著物；其中，所述清掃裝置包括：清掃單元，通過被支撐在支撐部件上的清掃部件進(jìn)行清掃；θ平臺，用于在所述擦拭方向上能夠放置多個(gè)所述清掃單元；擦拭單元，包括支撐所述θ平臺的臺座；在所述清掃單元的所述支撐部件和所述θ平臺上形成

專利地區(qū)：日本