反射膜層疊體專利登記公告

專利名稱：反射膜層疊體

摘要：本發(fā)明的反射膜層疊體，其特征在于，在基體上具有純Ag膜、或Ag基合金膜作為第1層，在前述第1層上具有選自由Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si組成的組中的1種以上的金屬的氧化物膜作為第2層，前述第2層的厚度為0.1～10nm，通過設(shè)置前述第2層，反射率的降低為30％以下。這樣的反射膜層疊體具有高初期反射率的同時，耐硫化性和耐熱性優(yōu)異，并且具有針孔盡量少的保護膜，其結(jié)果是，不易引起由Ag膜的Ag原子的集聚導(dǎo)致的反射率的降低。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201180004964.8

專利申請（專利權(quán)）人：株式會社神戶制鋼所

專利發(fā)明（設(shè)計）人：桂翔生;鈴木順;小林宣裕;佐藤俊樹

主權(quán)項：一種反射膜層疊體，其特征在于，在基體上具有純Ag膜、或Ag基合金膜作為第1層，在所述第1層上具有選自Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si中的1種以上的金屬的氧化物膜作為第2層，所述第2層的厚度為0.1～10nm，通過設(shè)置所述第2層而帶來的反射率的降低為30％以下。

專利地區(qū)：日本