一種超材料成像系統(tǒng)專(zhuān)利登記公告

專(zhuān)利名稱(chēng)：一種超材料成像系統(tǒng)

摘要：本發(fā)明公開(kāi)了一種超材料成像系統(tǒng)，包括從發(fā)射源到接收天線依次包括第一超材料透鏡、待成像區(qū)域以及第二超材料透鏡，所述第一超材料透鏡以及第二超材料透鏡均存在一區(qū)段，所述區(qū)段的中部各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ之乘積為最高值，其它各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ乘積值從小到大呈漸變趨勢(shì)，且，其所述漸變趨勢(shì)向所述最高值所在的單元趨近，發(fā)射源發(fā)射的電磁波經(jīng)所述的第一超材料透鏡匯聚后輸入至所述的待成像區(qū)域，所述待成像區(qū)域?qū)R聚過(guò)的電磁波再散射入所述的第二超材料透鏡，所述的第二超材料透鏡匯聚所述散射過(guò)的電磁波后

專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明專(zhuān)利

專(zhuān)利號(hào)：CN201110061803.4

專(zhuān)利申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人：深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創(chuàng)新技術(shù)有限公司

專(zhuān)利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：劉若鵬;石小紅;徐冠雄;張洋洋

主權(quán)項(xiàng)：一種超材料成像系統(tǒng)，其特征在于，從發(fā)射源到接收天線依次包括第一超材料透鏡、待成像區(qū)域以及第二超材料透鏡，所述第一超材料透鏡以及第二超材料透鏡均存在一區(qū)段，所述區(qū)段的中部各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ之乘積為最高值，其它各單元的等效介電常數(shù)ε與等效磁導(dǎo)率μ乘積值從小到大呈漸變趨勢(shì)，且，其所述漸變趨勢(shì)向所述最高值所在的單元趨近，物體發(fā)射的電磁波經(jīng)所述的第一超材料透鏡匯聚后輸入至所述的待成像區(qū)域，所述待成像區(qū)域?qū)R聚過(guò)的電磁波再散射入所述的第二超材料透鏡，所述的第二超材料透鏡匯聚所述散射過(guò)的電磁波后輸出至

專(zhuān)利地區(qū)：廣東