反射密度計(jì)專利登記公告

專利名稱：反射密度計(jì)

摘要：公開了一種用于確定光密度的方法。在基底的白色區(qū)域上進(jìn)行第一測(cè)量(402)。在用油墨印刷的所述基底的區(qū)域上進(jìn)行第二測(cè)量(404)。使用所述第一測(cè)量和第二測(cè)量來確定所述油墨的相對(duì)光密度(406)。

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080060827.1

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：惠普發(fā)展公司，有限責(zé)任合伙企業(yè)

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：H.比雷基;W.D.霍蘭;O.吉拉

主權(quán)項(xiàng)：一種方法，包括：在基底的白色區(qū)域上進(jìn)行第一光密度(OD)測(cè)量(402)；在用油墨印刷的所述基底的區(qū)域上進(jìn)行第二OD測(cè)量(404)；使用所述第一測(cè)量和第二測(cè)量來確定所述油墨的相對(duì)OD?(406)，通過將所述油墨的所述相對(duì)OD加到所述基底的絕對(duì)OD來確定所述油墨的絕對(duì)OD?(408)。

專利地區(qū)：美國(guó)