環(huán)烷二羧酸單酯的制造方法專利登記公告

專利名稱：環(huán)烷二羧酸單酯的制造方法

摘要：一種環(huán)烷二羧酸單酯的制造方法，其特征在于，包含：利用Z表示的基團(tuán)對(duì)式（1-A）表示的化合物的2個(gè)羧基（-COOH）進(jìn)行保護(hù)來(lái)獲得式（2-A）表示的化合物的第一工序，和利用酸對(duì)第一工序中得到的式（2-A）表示的化合物的Z表示的基團(tuán)中的任一個(gè)進(jìn)行脫保護(hù)來(lái)獲得式（3-A）表示的化合物的第二工序。（式中，m表示0~3的整數(shù)，p表示0或者1，Z表示甲硫基甲基等，R5、R6和R7各自獨(dú)立地表示氫原子、碳原子數(shù)為1~8的烷基、碳原子數(shù)為1~8的烷氧基、苯基或者芐基）。

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080060034.X

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：住友化學(xué)株式會(huì)社

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：大川春樹

主權(quán)項(xiàng)：一種環(huán)烷二羧酸單酯的制造方法，其特征在于，包含：利用Z表示的基團(tuán)對(duì)式（1?A）表示的化合物的2個(gè)羧基即?COOH進(jìn)行保護(hù)來(lái)獲得式（2?A）表示的化合物的第一工序，以及利用酸對(duì)第一工序中得到的式（2?A）表示的化合物的Z表示的基團(tuán)中的任一個(gè)進(jìn)行脫保護(hù)來(lái)獲得式（3?A）表示的化合物的第二工序；式中，m表示0~3的整數(shù)，p表示0或者1，Z表示甲硫基甲基即?CH2?SCH3、甲氧基甲基、乙氧基甲基、叔丁氧基甲基、（4?戊烯基氧基）甲基、（2?甲氧基乙氧基）甲基、1?乙氧基乙基、芐氧基甲基、4?甲氧基芐氧基甲基、2

專利地區(qū)：日本