治療設(shè)備專利登記公告

專利名稱：治療設(shè)備

摘要：一種治療設(shè)備，包括高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)（302），其用于對(duì)受試者（320）的超聲處理體積（324）進(jìn)行超聲處理。所述治療設(shè)備還包括磁共振成像系統(tǒng)（300），其用于在成像體積（316）內(nèi)采集磁共振溫度測(cè)定數(shù)據(jù)（350）。所述超聲處理體積處在所述成像體積之內(nèi)。所述治療設(shè)備還包括用于控制所述治療設(shè)備的控制器（304）。處置計(jì)劃包括用于控制所述高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)的操作的指令。所述控制器適于利用所述高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)對(duì)所述目標(biāo)體積進(jìn)行超聲處理（100）。所述控制器適于在執(zhí)行所述處置計(jì)劃期間利用所述磁共振成像系統(tǒng)重復(fù)采

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080059586.9

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：皇家飛利浦電子股份有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：E·T·韋海萊;S·索卡;I·A·J·科斯凱拉;M·O·科勒

主權(quán)項(xiàng)：一種治療設(shè)備，包括：?高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)（302），其用于對(duì)受試者（320）的超聲處理體積（324）進(jìn)行超聲處理；?磁共振成像系統(tǒng)（300），其用于從位于成像體積（316）內(nèi)的所述受試者的核子采集磁共振溫度測(cè)定數(shù)據(jù)（350），其中，所述超聲處理體積處在所述成像體積內(nèi)；以及?控制器（304），其用于控制所述治療設(shè)備，其中，所述控制器適于接收在所述成像體積內(nèi)指定目標(biāo)體積（322）的處置計(jì)劃（346），其中，所述處置計(jì)劃包括用于控制所述高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)的操作的指令，其中，所述控制器適于通過執(zhí)行所述處置計(jì)劃來利

專利地區(qū)：荷蘭