層移位方法和設(shè)備專利登記公告
專利名稱:層移位方法和設(shè)備
摘要:本發(fā)明提供了一種上行空分復(fù)用中進(jìn)行層移位的方法和設(shè)備。該上行空分復(fù)用中進(jìn)行層移位的方法包括:確定碼字-層映射方案;以及基于確定的碼字-層映射方案,選擇相應(yīng)的層移位模式進(jìn)行層移位,其中,在僅一個(gè)碼字的情況下,不進(jìn)行層移位,在其他情況下,通過(guò)所述層移位,一個(gè)碼字的部分?jǐn)?shù)據(jù)通過(guò)另一個(gè)碼字的層傳播。
專利類型:發(fā)明專利
專利號(hào):CN201080059550.0
專利申請(qǐng)(專利權(quán))人:上海貝爾股份有限公司
專利發(fā)明(設(shè)計(jì))人:劉瑾;朱旭東;尤明禮
主權(quán)項(xiàng):
專利地區(qū):上海
Tags: 上海
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