氣體分析裝置專利登記公告

專利名稱：氣體分析裝置

摘要：本發(fā)明提供氣體分析裝置，能不受校準用氣體供給管道中的校準用氣體劣化的影響地進行校準。所述氣體分析裝置包括開關機構控制部（61），該開關機構控制部（61）接收指示開始零點校準和量程校準的校準開始信號，控制校準用氣體流路（3）的開關機構（31）和零點氣體流路（2）的開關機構（21），當開關機構控制部（61）從進行了上次的校準起經過了規(guī)定時間后接收到新的校準開始信號時，開關機構控制部（61）通過控制校準用氣體流路（3）的開關機構（31），使得在量程校準開始前，在規(guī)定時間內使校準用氣體流路（3）的開關機構（31）

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080059301.1

專利申請（專利權）人：株式會社堀場制作所

專利發(fā)明（設計）人：宮井優(yōu);西川雅浩

主權項：一種氣體分析裝置，其特征在于包括：氣體分析儀，分析試樣氣體中含有的測量對象成分；校準用氣體流路，能將來自校準用氣體供給源的校準用氣體導入所述氣體分析儀，在該校準用氣體流路上設有開關機構；零點氣體流路，能將來自零點氣體供給源的零點氣體導入所述氣體分析儀，在該零點氣體流路上設有開關機構；以及開關機構控制部，接收校準開始信號，控制所述校準用氣體流路的開關機構和所述零點氣體流路的開關機構，所述校準開始信號指示開始零點校準和量程校準，其中，當所述開關機構控制部從進行了上次的校準起經過了規(guī)定時間以后接收到新的校準開始

專利地區(qū)：日本