用于處理光電體積描記信號(hào)的方法和裝置專利登記公告

專利名稱：用于處理光電體積描記信號(hào)的方法和裝置

摘要：本公開涉及用于處理光電體積描記信號(hào)，以支持臨床情境下分析光電體積描記信號(hào)的方法和裝置的領(lǐng)域。計(jì)算在一定時(shí)間段內(nèi)采集的光電體積描記信號(hào)的導(dǎo)數(shù)。分析并在x-y圖解中顯示作為所采集的光電體積描記信號(hào)的函數(shù)的所采集的光電體積描記信號(hào)對(duì)時(shí)間的導(dǎo)數(shù)，或反之進(jìn)行。

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080058692.5

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：皇家飛利浦電子股份有限公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：J·米爾施特夫

主權(quán)項(xiàng)：一種處理從受檢者取回的光電體積描記信號(hào)的方法，所述方法包括如下步驟：?在一定時(shí)間段內(nèi)采集所述光電體積描記信號(hào)；?計(jì)算所采集的光電體積描記信號(hào)對(duì)時(shí)間的導(dǎo)數(shù)；以及?分析作為所采集的光電體積描記信號(hào)的函數(shù)的所采集的光電體積描記信號(hào)的所述導(dǎo)數(shù)或反之進(jìn)行。

專利地區(qū)：荷蘭