光學(xué)器件專利登記公告

專利名稱：光學(xué)器件

摘要：激光二極管被構(gòu)造為具有基板和增益區(qū)，所述基板通過相對(duì)的AR和HR反射器定界。所述增益區(qū)橋接相應(yīng)的AR和HR反射器的部分并且被構(gòu)造為具有主共振腔和至少一個(gè)側(cè)共振腔。主共振腔跨越相應(yīng)的反射器的部分之間，并且至少一個(gè)附加共振腔與主共振腔相鄰延伸。增益區(qū)被構(gòu)造為使得激勵(lì)發(fā)射僅在主共振腔中產(chǎn)生。因此，激光二極管可操作以輻射通過AR反射器的尺寸被設(shè)計(jì)為形成具有期望近場(chǎng)的輸出束的部分發(fā)射的高功率輸出束。

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080058628.7

專利申請(qǐng)（專利權(quán)）人：IPG光子公司

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：瓦倫丁·蓋龐特瑟夫;亞歷山大·奧夫契尼可夫;阿列克謝·科米薩諾夫;帕維爾·特魯邊科

主權(quán)項(xiàng)：一種激光二極管，包括：基板，其在間隔開的HR和AR反射器之間延伸；增益區(qū)，其設(shè)置在所述基板中并且可操作以期望波長(zhǎng)發(fā)射輻射線，所述增益區(qū)具有：主共振器，其橋接相應(yīng)的HR和AR反射器的部分，以及側(cè)共振器，其與所述主共振器相鄰定位并且被構(gòu)造為具有比所述主共振器的激光發(fā)射閾值高的激光發(fā)射閾值，其中通過所述AR反射器的部分發(fā)射具有期望近場(chǎng)的所述輻射線。

專利地區(qū)：美國