吡咯烷衍生物專利登記公告

專利名稱：吡咯烷衍生物

摘要：本發(fā)明涉及式(I)化合物或其藥物活性鹽。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)所述化合物是高潛力的NK-3受體拮抗劑，用于治療抑郁癥、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂癥、焦慮和注意缺陷多動障礙(ADHD)。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080057154.4

專利申請（專利權）人：霍夫曼-拉羅奇有限公司

專利發(fā)明（設計）人：亨納·努斯特;安德烈亞斯·科布利特;馬蒂亞斯·內特科文;哈薩內·拉特尼;克勞斯·里默爾;沃爾特·維凡

主權項：一種式I化合物：其中R1是氫，鹵素，氰基，低級烷基或被鹵素取代的低級烷基；n是1，2或3，如果n是2或3，則R1可以不同；R2是氫或甲基；R3是(CH2)r?C(O)NH2或(CH2)r?CN，其中r是1或2，或是非芳香雜環(huán)基其中X是N或CH；Y是?C(R)(R7)?；?N(R7’)?，?S(O)2或O；R6是氫，二?低級烷基或＝O；o和m可以彼此獨立地是0，1或2；p??是0，1或2；R是氫，鹵素，或低級烷基；R7是氫，鹵素，羥基，被羥基取代的低級烷基，氰基，或低級烷氧基；R7’是氫，?C(O)?低級烷

專利地區(qū)：瑞士