流體設備的密封結構專利登記公告

專利名稱：流體設備的密封結構

摘要：本發(fā)明提供一種流體設備（1）的密封結構，其具備界定流體設備（1）的中空的內部區(qū)域（1a）的第1部件（2），與第1部件（2）一同界定內部區(qū)域（1a）的、能夠相對第1部件（2）相對移動的第2部件（3），固定在第1部件（2）上并密封第1及第2部件（2、3）之間間隙（G）的密封部件（4）。密封部件（4）具備與第2部件（3）的表面（3a）滑接的、由樹脂構成的滑接部件（4b）。第2部件（3）具備樹脂層（5）和樹脂層保持結構（6），其中樹脂層（5）是使構成滑接部件（4b）的樹脂通過第2部件（3）和滑接部件（4b）之間的

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201080050874.8

專利申請（專利權）人：株式會社IHI

專利發(fā)明（設計）人：田畠一二三;柚木伸彥;渡邊光敏;落合宏行;細井英治

主權項：一種流體設備的密封結構，其特征在于，具備：界定該流體設備的中空的內部區(qū)域的第1部件；與該第1部件一同界定上述內部區(qū)域的、能夠相對上述第1部件相對移動的第2部件；以及固定于上述第1部件并密封上述第1部件和第2部件之間的間隙的密封部件，上述密封部件具備與上述第2部件的表面滑接并由樹脂構成的滑接部件，上述第2部件具備樹脂層和樹脂層保持結構，其中上述樹脂層是使構成上述滑接部件的樹脂通過上述第2部件和滑接部件之間的滑動而移附到上述第2部件的表面上的與上述滑接部件滑接的滑接部位上而形成的，上述樹脂層保持結構將上述樹脂

專利地區(qū)：日本