潛像圖案形成體專利登記公告

專利名稱：潛像圖案形成體

摘要：本發(fā)明提供從相對于基材傾斜的方向進(jìn)行觀察時(shí)能夠觀察到與以往相比真?zhèn)闻袆e性、外觀設(shè)計(jì)性、以及目視性優(yōu)異的潛像的潛像圖案形成體。在基材的一個(gè)面的至少一部分，具備潛像區(qū)域、在上述潛像區(qū)域的至少一部分的輪廓上配置的輪廓區(qū)域、以及配置于上述潛像區(qū)域及上述輪廓區(qū)域的背景上的背景區(qū)域，在上述潛像區(qū)域在第1方向上以第1間距配置多個(gè)具有凹狀或凸?fàn)畹牡?要素，在上述背景區(qū)域在上述第1方向上以上述第1間距以與上述潛像區(qū)域的上述第1要素不同的相位配置多個(gè)上述第1要素，在上述輪廓區(qū)域在上述第1方向上以上述第1間距以與相鄰的上述潛像

專利類型：發(fā)明專利

專利號(hào)：CN201080045136.4

專利申請（專利權(quán)）人：獨(dú)立行政法人國立印刷局

專利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：古家真;北川伸一;森永匡

主權(quán)項(xiàng)：一種潛像圖案形成體，其特征在于，在基材的一個(gè)面的至少一部分，具備潛像區(qū)域、配置于所述潛像區(qū)域的至少一部分的輪廓的輪廓區(qū)域、以及配置于所述潛像區(qū)域及所述輪廓區(qū)域的背景的背景區(qū)域，在所述潛像區(qū)域以第1間距在第1方向上配置多個(gè)具有凹狀或凸?fàn)畹牡?要素，在所述背景區(qū)域以所述第1間距在所述第1方向上以與所述潛像區(qū)域的所述第1要素不同的相位配置多個(gè)所述第1要素，在所述輪廓區(qū)域以所述第1間距在所述第1方向上以與相鄰的所述潛像區(qū)域或所述背景區(qū)域不同的相位配置多個(gè)所述第1要素，在所述潛像區(qū)域、所述背景區(qū)域及所述輪廓區(qū)域，分

專利地區(qū)：日本