測量光學表面形狀的方法以及干涉測量裝置專利登記公告

專利名稱：測量光學表面形狀的方法以及干涉測量裝置

摘要：提供一種測量測試物體（12）的光學表面（14）的形狀的方法。該方法包括以下步驟：提供產(chǎn)生測量波（18）的干涉測量裝置（16），在不同測量位置處相對于彼此連貫地布置該干涉測量裝置（16）和測試物體（12），從而由該測量波（18）照明該光學表面（14）的不同區(qū)域（20），在該不同測量位置，測量該測量裝置（16）關于該測試物體（12）的位置坐標，通過在每個測量位置處使用測量裝置（16）干涉地測量該測量波（18）在與該光學表面（14）的各個區(qū)域（20）相互作用之后的波前而獲得表面區(qū)域測量，通過基于該干涉測量裝置（

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN200980162499.3

專利申請（專利權）人：卡爾蔡司SMT有限責任公司

專利發(fā)明（設計）人：R.弗賴曼;B.多爾班德;S.舒爾特;A.霍夫;F.里彭豪森;M.曼格;D.紐格鮑爾;H.艾斯勒;A.比科

主權項：一種測量測試物體的光學表面的形狀的方法，包括：－提供產(chǎn)生測量波的干涉測量裝置，－在不同測量位置處相對于彼此連貫地布置所述干涉測量裝置和所述測試物體，使得所述測量波照明所述光學表面的不同區(qū)域，－在所述不同測量位置處，測量所述測量裝置關于所述測試物體的位置坐標，－通過在每個所述測量位置處使用所述測量裝置干涉地測量所述測量波在與所述光學表面的各個區(qū)域相互作用之后的波前而獲得表面區(qū)域測量，以及－通過基于所述干涉測量裝置在每個所述測量位置處的所測量的位置坐標計算地組合所述子表面測量，而確定所述光學表面的實際形狀。

專利地區(qū)：德國